冰凍蝕刻
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冰凍蝕刻(freeze-etching)技術是在冰凍斷裂技術的基礎上發展起來的更複雜的復型技術。如果將冰凍斷裂的樣品的溫度稍微升高，讓樣品中的冰在真空中升華，而在表面上浮雕出細胞膜的超微結構。當大量的冰升華之後，對浮雕表面進行鉑-碳復型，並在腐蝕性溶液中除去生物材料， 復型經重蒸水多次清洗後，置於載網上作電鏡觀察。
冰凍蝕刻原理
冰凍蝕刻（freeze-etching）亦稱冰凍斷裂（freeze-fracture）。標本置於-100˚C的乾冰或-196˚C的液氮中，進行冰凍。然後用冷刀驟然將標本斷開，升溫後，冰在真空條件下迅即升華，暴露出斷面結構，稱為蝕刻（etching）。蝕刻後，向斷面以45度角噴塗一層蒸汽鉑，再以90度角噴塗一層碳，加強反差和強度。然後用次氯酸鈉溶液消化樣品，把碳和鉑的膜剝下來，此膜即為復膜（replica）。復膜顯示出了標本蝕刻面的形態，在電鏡下得到的影像即代表標本中細胞斷裂面處的結構。
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